设备名称：	紫外曝光机
	型号：	MDA-400M
	生产厂家：	Korea, Midas
	购买时间：	2009年
	运行状况：	良好
	负责人：	宋春雷
	电话：	0431-85262985
	电子邮件：	songcl@caic.jl.cn
	存放地点：	本馆

主要功能及应用范围
用于感光性高分子材料光照处理，研发光敏高分子材料（包括光固化材料），适合实验室及小规模生产需要。

技术参数
最大支持基片：6"
最大支持掩膜板：7"×7"方片
UV灯功率：350W
曝光时间范围：0.01～999.9秒
对准精度：<±0.5μm

操作流程
一、依次打开空压机、真空泵、UV Lamp Power电源的MAIN SW；将V/A开关置于V，并在1s内按一次IGNITORON键，等待V的数值大于100V(100～120V)，然后将V/A开关置于A并按住IGNITOR ON键2～3s，此时A数值大于0；打开主控制器面板上的POWER ON，等待10min以上，直到A的数值(4.0～4.3)保持不变。
二、加载掩膜，按下MASK VAC，固定掩膜，加载样品基片，按下SAMPLE VAC，固定基片，按下MASK CLOSE。
三、手动调节Z轴滑台直到掩膜与基片接触，此时为软接触模式，也可选择HARD CON或VAC CON模式，点击EXPOSURE键，设定曝光时间，开始曝光。
四、曝光结束，掩模板自动开启。关闭机器：点击MASK OPEN，按下MASK VAC和SAMPLE VAC取下掩膜和基片。按下IGNITOR OFF键，按下UV Lamp Power电源的MAIN SW关闭，按下主控制器POWER OFF，关闭空压机、真空泵。

注意事项
一、室内温度应在22℃左右，否则Lamp电源无法正常运行。
二、开启UV Lamp Power并调节后，A和V数值均不能为0，否则机器出现故障；关机后需要等30min后才能重新开启机器。
三、必须使用CP模式。